铅笔道作者 | 华泰诗

近日：来自山东青岛的思锐智能与国泰君安证券签署辅导协议，正式冲刺IPO。

这是一家专注关键半导体前道工艺设备研发、生成和销售的公司，这些设备广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等众多高精尖领域。

思锐智能的“杀手锏”是8MeV高能离子注入机，其能量等级达国际先进水平，填补国内空白。该设备重达38吨，可实现微米级深度掺杂，应用于图像传感器、5G射频芯片等高附加值领域

融资方面，思锐智能完成 B + 轮融资后，其估值达 41 亿元。2024 年，思锐智能被评为“中国隐形独角兽 500 强” 称号。

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青岛思锐智能科技股份有限公司（思锐智能）前身为青岛四方思锐智能技术有限公司。

自2018年1月22日成立以来，便扎根于中国（山东）自由贸易试验区青岛片区，专注于关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售。

目前该公司已形成了 “双主业” 布局，包括：原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备成为其两大核心产品。

气设备广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等众多高精尖领域。

在思锐智能的众多产品中，ALD设备是其明星产品。

ALD能够在原子层面上精确地沉积薄膜，就如同用最精细的画笔在芯片上绘制图案，这种特性使其在第三代半导体材料（如碳化硅SiC和氮化镓GaN）的制造中表现出色。

通过ALD技术，思锐智能成功提升了器件的电学特性，改善界面态、提高击穿特性、降低漏电等效果显著。

2024年，ALD设备订单同比增长40%。

思锐智能的高能离子注入机（如SRII-4.5M和SRII-8M）采用先进的射频加速技术，能量分辨率高达±1%，能够满足从28nm到更先进制程的工艺需求。

针对碳化硅（SiC）的特殊需求，思锐智能的离子注入机采用了Al离子源设计，离子源寿命可达300小时，同时通过预加热平台和高温靶盘解决了SiC退火激活的难题。

其中，气离子注入设备更是打破国外技术封锁，填补国内高端离子注入机的空白，逐步实现国产化替代。

这两类设备均属于芯片制造四大核心设备，技术难度仅次于光刻机。

客户方面，该公司客户群体涵盖全球40个国家及地区的500多家半导体制造企业和科研机构。

通过国产化替代，思锐智能为客户提供了高性价比的解决方案，设备采购成本降低20%-30%。

财务方面，2023年，该公司营业收入为46767.11万元，但利润总额为 -23948.29万元。2024年截至7月31日，营业收入为21499.75万元，利润总额为 -14196.02万元。

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思锐智能创始人聂翔博士在半导体设备领域深耕超20年。

2018年，他带领团队全资收购芬兰Beneq公司，借此获得近40年的成熟ALD技术积累，实现从科研市场向工业市场的转型，整合全球研发资源，顺利切入高端镀膜设备市场，正式融入全球半导体产业链。

在资本的助力下，思锐智能发展迅猛。

资料显示，思锐智能已完成多轮融资，包括数亿元的B轮融资及B+轮融资。

完成B+轮融资后，思锐智能估值达到41亿元，背后投资方不乏上汽集团、尚颀资本、鼎晖投资、招商局创投、上海金浦、新鼎资本、创新工场等知名机构。

据行业数据显示，2024年全球半导体设备市场规模达到700亿美元，预计未来5年将以10%的年复合增长率持续增长。

在市场竞争方面，国际巨头如ASML、Applied Materials，国内企业如北方华创、中微公司等，都是其强劲对手。其中，ASML在全球市场占据绝对优势。

随着半导体制造技术不断进步，ALD设备在3D NAND、先进逻辑芯片等领域的应用将更加广泛。

数据显示，薄膜沉积设备市场规模约为175亿美元，ALD设备作为薄膜沉积的核心设备，占据约30%的市场份额。

在国内市场，随着国产化率提升，ALD设备需求增速高达20%，成为行业增长的主要驱动力。

本文内容仅供参考，不构成任何投资建议。本文还参考了观海新闻、全球半导体观察 、湖州产业集团、青岛市情网、北京产权交易所交易系统等相关内容，一并致谢。文中图片源自公司官网图片。